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阿尔托大学与诺基亚高斯泼溅渲染新作:TileGS栅格核心加速1.44倍
前沿研究

阿尔托大学与诺基亚高斯泼溅渲染新作:TileGS栅格核心加速1.44倍

论文基本信息 原文标题: TileGS: Tile-Local Depth Binning for Gaussian Splatting Rasterization 首次公开: 2026 年 9 月 3 日 主要署名单位: 阿尔托大学;诺基亚技术 具体领域: 高斯泼溅渲染 核心亮点: 栅格核心平均加速约 1.44 倍,九个场景画质差异保持在数值噪声范围 许可

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